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無氟紫外光輔助刻蝕多層Mo2C

無氟紫外光輔助刻蝕多層Mo2C

【編號】BK2020070902 【CAS號】CAS
【貨號】BK2020070902-03 【規格】
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17761925168 / 17768014569 / 18915413828

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產品信息:
名稱:紫外光輔助刻蝕多層Mo2CTx
尺寸:1-5um
層數:10-20層
產品性能:高純度優良的電化學性能
官能團:-OH-F-O-Cl(可定制)
純度: 99%
儲存條件:常溫干燥
工藝:冷凍干燥
具體細節:新型紫外光輔助選擇性刻蝕方法,可以將Mo2Ga2C前驅體中的Ga原子刻蝕,進而得到無氟的Mo2C MXene,并且避免了對毒性高腐蝕性酸的使用。得到的MXene展現出了獨特的2D石墨烯狀的結構以及較高的純度。當其作為可充電電池的負極材料時,展現出了杰出的倍率性能與循環穩定性,儲鋰容量可以穩定在在150 mAh g-1左右,而儲鈉則可以穩定在50 mAh g-1左右。此外,柔性的Mo2CMXene基電池具有杰出的容量保留率(89%和74%)。因此, 這種MXene展示出了在離子存儲應用中的巨大潛力,以及這種綠色的合成方法可以擴展其他MXene的合成思路,極具參考意義。
應用領域:儲能、催化、分析化學、力學、吸附、生物、微電子、傳感器等
尺寸工藝均可定制





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